實驗型氧化亞硅設備

產(chǎn)品應用：

本設備是氧化亞硅真空蒸鍍制備的專用設備，其中反應室為鉬絲電阻加熱，收集區(qū)為金屬筒結構，有效蒸發(fā)區(qū)域不低于15L。

產(chǎn)品特點：

設備爐體上設有真空預抽氣口和小抽速抽氣口，有利于粉料燒結時不易被抽出;加熱元件采用高純鉬絲和剛玉組件加工而成，放置于反應區(qū)，熱量輻射到坩堝對產(chǎn)品進行加熱，保證有效加熱區(qū)的溫度均勻性及加熱效率;

反應區(qū)坩堝、收集區(qū)收集倉均采用便攜可拆結構，方便取放。

核心結構與特性：

加熱與保溫：電阻絲三面加熱，氧化鋁多晶纖維爐膛，保溫性能佳，升溫快且能耗低，重量僅為傳統(tǒng)爐的 1/5 左右。

控溫與智能：30 段程序控溫，PID 自整定，控溫精度 ±1℃；支持遠程控制、數(shù)據(jù)記錄與報表輸出，適配無人值守。

安全與耐用：超溫報警并斷電、漏電保護、爐門與加熱互鎖、斷偶報警；彈簧門扣補償高溫收縮縫隙，密封可靠。

選型與使用要點：

選型：按樣品量選容積，按工藝選升溫速率，按氣氛需求選通氣口配置，按精度選控溫模塊。

使用：shou次需烘爐除潮；升溫速率不宜長期滿負荷，避免損傷爐膛與元件；定期檢查電阻絲、熱電偶與保溫層狀態(tài)。

實驗型氧化亞硅設備設備選型表：