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真空熱壓爐是一種融合真空環(huán)境、精準(zhǔn)控溫與壓力施加三大核心技術(shù)的gao端材料加工設(shè)備,通過高溫與壓力的協(xié)同作用,實(shí)現(xiàn)材料致密化、成型與性能優(yōu)化,廣泛應(yīng)用于制造業(yè)及科研領(lǐng)域,是制備高性能材料的關(guān)鍵裝備。其核心優(yōu)勢在于真空環(huán)境可有效隔絕氧氣與雜質(zhì),避免材料氧化污染,搭配精準(zhǔn)的溫壓控制,能顯著提升成品致密度與力學(xué)、物理性能。
產(chǎn)品型號:LNG-1200
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時間:2026-01-16
訪 問 量:183
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真空熱壓爐
產(chǎn)品應(yīng)用:
該設(shè)備主要供大專院校、科研單位等針對金屬化合物、陶、無機(jī)化合物、納米材料等在真空或保護(hù)氣氛的條件下進(jìn)行加壓加熱燒結(jié)處理,以便獲得高致密度的產(chǎn)品,例如生產(chǎn)高精度氮化硅陶瓷軸承等。
產(chǎn)品特點(diǎn):
爐蓋采用雙層不銹鋼(SUS304)水夾層封頭結(jié)構(gòu),與法蘭組焊成一個整體。其中內(nèi)壁精密拋光,外壁噴砂鈍化處理。爐蓋上設(shè)有冷卻水進(jìn)出口、上壓頭安裝座、壓力傳感器接、自動充放氣接等。
加熱采用優(yōu)質(zhì)高純石墨作發(fā)熱體,圓周排布,保證溫場的穩(wěn)定性,且高純石墨純度高,無揮發(fā),有效保證爐腔內(nèi)的清潔度。隔熱材料采用石墨纖維碳?xì)郑匦Ч茫蜎_擊性好。整個隔熱屏采用金屬框架固定,便于安裝與維護(hù)。
電氣控制系統(tǒng)可實(shí)行自動控溫,PID帶有自整定功能。

真空熱壓爐設(shè)備核心結(jié)構(gòu)由七大系統(tǒng)構(gòu)成,協(xié)同保障加工穩(wěn)定性。爐體采用雙層水冷夾套設(shè)計,內(nèi)層為拋光不銹鋼腔體,外層為碳鋼防護(hù),夾層通水冷卻可使?fàn)t壁溫度控制在60℃以內(nèi),兼顧密封性與安全性。加熱系統(tǒng)多采用石墨發(fā)熱體或感應(yīng)線圈,石墨發(fā)熱體zui高溫度可達(dá)2500℃,升溫速率快且熱場均勻;感應(yīng)加熱則適配高精度加工需求,控溫精度更優(yōu)。
真空與氣氛系統(tǒng)是核心配置,由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵或分子泵組成,冷態(tài)極限真空度可達(dá)4×10?3~6×10??Pa,壓升率≤0.26Pa/h,同時支持充入Ar、N?、H?等保護(hù)氣體,適配不同材料加工需求。壓力系統(tǒng)采用液壓驅(qū)動,可實(shí)現(xiàn)單向或雙向加壓,壓力范圍30T~2000T可調(diào),壓頭平面精度達(dá)±5μm,壓力控制精度≤±0.5%,搭配光柵尺位移監(jiān)測,實(shí)時反饋壓頭行程,精度可達(dá)0.05mm。

控制系統(tǒng)采用PLC與PID算法,實(shí)現(xiàn)溫度、壓力、真空度的閉環(huán)精準(zhǔn)控制,溫度均勻性±5℃,支持工藝參數(shù)編程存儲、實(shí)時曲線顯示與數(shù)據(jù)追溯,同時配備超溫、斷水、過壓聲光報警及急停裝置,quan方位保障作業(yè)安全。冷卻系統(tǒng)采用外循環(huán)設(shè)計,壓力2~10bar,可實(shí)現(xiàn)工件快速降溫,提升加工效率并避免熱應(yīng)力開裂。

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