納米研磨機

如研磨 納米氧化鋁，納米氧化鋅，納米氧化鈰，納米氧化鐵，納米氧化鉍，納料ATO合金等產品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒

是SID公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

1  線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

1. 能量傳遞：電機驅動研磨腔（如臥式 / 立式腔）內的攪拌器（或轉子）高速運轉，帶動研磨介質（氧化鋯珠、瑪瑙珠等）做劇烈運動，產生動能；

2. 物料細化：高速運動的研磨介質與物料碰撞、剪切，同時物料在介質間隙中受擠壓、摩擦，團聚顆粒被破碎、剝離，逐漸細化至納米級；

3. 精準控質：通過分離裝置（如動態分離器）攔截研磨介質，讓細化后的物料持續排出，同時可調控轉速、介質粒徑等參數，保證物料粒徑均勻且穩定。

GMSD2000設備參數表：