半導(dǎo)體單壁碳納米管分散機(jī)

單壁碳納米管以其du特而且優(yōu)異的物理化學(xué)性質(zhì)在諸多領(lǐng)域上的應(yīng)用 方面展現(xiàn)了很好的發(fā)展前景。目前存在的制備單壁碳納米管(SWNTs)的方法得到的都是不同導(dǎo)電性，不同手性混合的樣品，他們的區(qū)別主要是由直徑和螺旋角 和手性指數(shù)決定的。于是金屬性SWNTs與半導(dǎo)體性SWNTs(m-SWNTs，s-SWNTs)及不同手性的單壁碳納米管的分離技術(shù)就顯得尤為重要。

碳納米管導(dǎo)電漿料及其制備方法

碳納米管導(dǎo)電漿料主要由碳納米管、其他導(dǎo)電填料、分散助劑、和溶劑組成，其質(zhì)量百分比組成為：碳納米管：0.5-15%，其他導(dǎo)電物質(zhì)0.1-2%，分散助劑：0.1-5%，其余為溶劑。

該碳納米管導(dǎo)電漿料制備方法為：首先將分散助劑溶解在溶劑中，然后在攪拌條件下加入碳納米管和其他導(dǎo)電填料，待碳納米管和其他導(dǎo)電填料充分浸潤(rùn)后，采用SID研磨分散機(jī)對(duì)漿料進(jìn)行研磨分散，幾小時(shí)后即可得到穩(wěn)定分散的碳納米管導(dǎo)電漿料。本發(fā)明方法簡(jiǎn)單，不破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性，所制得的碳納米管導(dǎo)電漿料具有優(yōu)良的導(dǎo)電性，且性質(zhì)穩(wěn)定均一，靜置3個(gè)月后，漿料穩(wěn)定性>90%。

對(duì)于碳納米管漿料以及其他鋰電池漿料的研磨分散，普遍存在著2個(gè)難以解決的問題：
  
   1、研磨的細(xì)度，傳統(tǒng)的設(shè)備研磨設(shè)備是通過刀頭去磨細(xì)，這樣經(jīng)常會(huì)破壞碳納米管結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電性，使物料變性。而SID研磨分散機(jī)，細(xì)化物料更多的是通過物料與物料直接的撞擊來完成研磨細(xì)化的功能，不會(huì)破壞物料結(jié)構(gòu)。

   2、容易形成二級(jí)團(tuán)聚體，在碳納米管粒徑細(xì)化之后，由于分子之間的作用力，小的物料又會(huì)二次團(tuán)聚，從而影響zui終產(chǎn)品的物料粒徑以及分散的效果。SID研磨分散機(jī)很好的克服了二級(jí)團(tuán)聚的現(xiàn)象，SID研磨分散機(jī)是研磨機(jī)和分散機(jī)一體化的設(shè)備，在碳納米管漿料粒徑細(xì)化后，瞬間通過分散工作腔，進(jìn)行分散，避免二次團(tuán)聚的現(xiàn)象。

半導(dǎo)體單壁碳納米管分散機(jī)，GMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

GMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供chao強(qiáng)切割力，纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.

更可靠 采用整體式機(jī)械密封，程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用國(guó)際xian進(jìn)的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表: